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Cassification
更新時間：2026-07-16 
瀏覽次數：114在半導體刻蝕、光伏鍍膜、平板顯示及化學工業等涉及腐蝕性氣體和粉塵排出的工藝場景中介紹，真空泵不僅需要提供潔凈無油的真空環境，還需具備耐受化學侵蝕和顆粒物沖擊的能力。愛發科（ULVAC）MS120A螺桿型干式真空泵作為MS系列的代表型號，在LS系列的基礎上針對耐腐蝕性和粉末排出性能進行了專項提升，依托雙螺桿無油容積式壓縮技術，以耐腐蝕氣體、高粉塵排出能力、115m3/h最大抽速等特性，成為面向嚴苛工藝環境的可靠真空獲取方案。
MS120A的核心工作原理建立在雙螺桿非接觸式容積壓縮這一物理機制之上。它本質上是一種干式容積真空泵——通過兩根平行嚙合的螺桿轉子同步反向旋轉，周期性地改變轉子與泵殼之間形成的封閉腔體容積，實現氣體的吸入、壓縮與排出。
泵的核心運動部件由兩根精密加工的雙螺桿轉子組成：
非接觸式運轉：兩根螺桿轉子在同步齒輪的驅動下以相反方向高速旋轉，轉子之間以及轉子與泵殼之間始終保持微米級的微小間隙，無需任何潤滑油作為密封介質。這一設計從根源上杜絕了油蒸氣的產生與返流。
容積式壓縮：隨著轉子旋轉，氣體由進氣口被吸入后，在螺桿螺旋槽與泵殼之間形成的封閉腔體中沿軸向連續傳遞。腔體容積沿輸送方向逐漸縮小，氣體被逐級壓縮，最終從排氣口排出。
無油密封與冷卻：軸承和齒輪等旋轉部件的潤滑油通過精密軸封嚴格隔離，確保氣體接觸區域不接觸任何油類介質。泵體采用強制冷卻系統，保障在高溫和腐蝕性工藝環境下的穩定運行。
耐腐蝕性提升：MS120A在傳統LS系列的基礎上進行了專項升級——對轉子軸等核心部件進行了表面處理和材料優化，使其能夠耐受腐蝕性氣體的化學侵蝕。同時優化了排氣通道設計，提升了粉末排出性能，有效防止顆粒物在泵內積聚。
1. 耐腐蝕設計，適配嚴苛工藝
MS120A專門針對使用腐蝕性氣體和產生粉塵的工藝進行了優化設計。半導體刻蝕、CVD等工藝中常涉及氟化物、氯化物等腐蝕性氣體，這些氣體對普通真空泵的金屬部件具有強侵蝕性。MS120A通過對氣體接觸部件的表面處理和材料選型，有效延長了在腐蝕性環境中的使用壽命。同時，優化的流道設計使工藝過程中產生的粉末顆粒能夠順暢排出，避免在泵腔內壁和轉子表面的附著與堆積。
2. 高抽速，適配批量生產節奏
MS120A在50Hz電源條件下的最大排氣速度達115m3/h，在同級螺桿干泵中處于較高水平。這一抽速可適配中型刻蝕設備、CVD設備及批量生產型真空系統，在較短時間內完成腔體抽空，滿足產線節拍要求。
3. 極限壓力滿足工藝需求
MS120A的極限壓力為≤0.6Pa，可滿足刻蝕、CVD等工藝對基礎真空度的要求。配合其耐腐蝕和耐粉塵設計，在含腐蝕性氣體和顆粒物的工藝環境中仍能保持穩定的真空性能。
4. 寬電壓適配與低運行成本
MS120A搭載寬電壓馬達，支持200V級（三相，50/60Hz，AC200-240V±10%）和400V級（三相，50/60Hz，AC380-480V±10%）兩種電源規格，可適配全球不同國家和地區的電網標準。在運行成本方面，MS120A無需軸封密封氣體，減少了輔助氣體的消耗。
5. 維護便捷性
MS系列在產品設計上充分考慮了維護的便利性。氣體接觸區域不使用油類介質，無需進行定期的真空油更換和油位檢查。對于需要長期連續運行的工業產線，這一特性顯著降低了日常維護工作量和備件消耗。
| 參數 | MS120A |
|---|---|
| 最大排氣速度 | 115 m3/h |
| 極限壓力 | ≤0.6 Pa |
| 電源電壓 | 200V級：三相，50/60Hz，AC200-240V±10% |
| 電源電壓 | 400V級：三相，50/60Hz，AC380-480V±10% |
| 系列定位 | 耐腐蝕型螺桿干泵 |
數據來源：愛發科產品規格表
半導體刻蝕：在等離子刻蝕工藝中，MS120A的耐腐蝕設計可有效應對含氟、含氯等腐蝕性工藝氣體的排氣需求，同時其粉末排出能力可處理刻蝕過程中產生的副產物顆粒。
半導體CVD：用于化學氣相沉積設備的真空排氣，處理含有腐蝕性前驅體氣體的工藝環境。
光伏制造：用于光伏電池片鍍膜等工藝的真空系統，應對工藝中可能產生的腐蝕性氣體和粉塵。
平板顯示制造：適用于FPD制造中的沉積和刻蝕工藝，為潔凈真空環境提供可靠保障。
化學工業：用于化工生產中的真空蒸餾、干燥等涉及腐蝕性介質的工藝。
一般工業鍍膜：適用于各類工業級真空鍍膜設備的排氣，尤其適合含有腐蝕性氣氛的工藝場景。
MS120A是愛發科在耐腐蝕型螺桿干式真空泵領域的一款代表性產品。通過雙螺桿非接觸式容積壓縮機制與耐腐蝕表面處理技術的配合，在實現115m3/h最大抽速和≤0.6Pa極限壓力的同時，有效解決了半導體刻蝕、CVD等工藝中腐蝕性氣體和粉塵排出對真空泵的嚴苛要求。其寬電壓適配、無油潔凈運行等特性，使其成為半導體刻蝕、CVD、光伏鍍膜及平板顯示制造等含腐蝕性氣體和粉塵工藝場景中可靠的真空獲取方案。
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